製品概要

Applied E3は、半導体、フラットパネル、太陽電池製造工場の生産性向上とコスト削減をもたらす包括的なFA(工場自動化)パッケージです。
Applied E3はプロセス効率を30%以上高め、予定外のダウンタイムやサイクルタイムを短縮し、全体的な装置効率を最大20%向上させることができます。

Applied E3はSEMI E133 Process Control System(PCS)に定義されるAPCアプリケーション、単一コンフィグレーション環境、歩留まりコントロールおよび運用システム間で必要となるデータの共有化を図るファクトリワイドでのAPCアプリケーション構築を提供します。
コア部分として、データアクセス、ログ、セキュリティ、メッセージ受渡し、負荷平準化の共通枠組を提供します。またこのプラットフォームの上で、PCS 準拠のR2R (ランツーラン) , FDC (障害検出・分類), EPT (装置パフォーマンストラッキング) 各エンジンが動作する他、デザイナーというGUI機能により、カスタムアプリケーションを作成できます。
R2R(ランツーラン) アプリケーションとして、CMP, Etch CD, Litho CD, Litho Overlay のモジュールが提供できます。

製品概要
E3 Modules

オプション モジュール一覧

E3 モジュール
FDC(障害検出・分類) ■装置障害検出・分類
■単変量解析、多変量解析
R2R(ランツーラン) ■状態空間プロセスモデリング
■ランツーラン レシピ最適化
■CMP,Etch CD,Litho CD,Litho Overlayのモジュール
EPT(装置パフォーマンストラッキング) ■コンポーネント パフォーマンス トラッキング
■スループット分析
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